日本半导体光刻胶巨头东洋合成（Toagosei）正将战略目光投向新兴的“纳米压印”（NIL）领域，旨在为快速增长的增强现实（AR）眼镜市场提供核心材料支持。不同于传统半导体微细加工，该公司正专注于开发用于光波路形成的新型树脂，并已初步构建起从树脂研发到工作模具（Working Stamp）制作的全套生态系统，目前正在进行试制验证。
东洋合成在NIL技术研究上已深耕约二十年。在近期于东京举办的“新功能性材料展2026”上，该公司重点展示了其专为光学应用开发的NIL树脂。在NIL工艺中，需在PET等基材上形成光波路，这对材料的耐热性、耐光性及密着性提出了严苛要求。虽然石英、硅或镍等材质的主模具（Master Mould）能实现高精度图案，但成本高昂难以大规模量产。因此，利用低成本树脂复制主模具制成可一次性使用的“工作模具”，成为实现量产的关键。
针对AR眼镜特有的光波路结构，其沟槽角度多在45至60度之间，具有约1:1的长宽比，高度约300纳米，间距约400纳米。东洋合成的工艺特色在于：先将自主研发的碱性树脂涂布于基材，贴合主模具后，使用高压汞灯进行UV照射固化，随后剥离主模具即可得到工作模具。为保护昂贵的主模具，公司还提出了利用工作模具进行二次复制的循环生产方案。
在追求高性能的同时，东洋合成也积极响应全球环保趋势，致力于开发不含PFAS（全氟和多基物质）的环保材料。目前，该无氟材料在重复转印时的尺寸变化率已控制在3%以内，与含氟产品表现相当。不过，在转印次数维持精度方面，无氟材料目前约为含氟材料的一半，且脱模性仍有提升空间。
为加速光学NIL市场的扩张，东洋合成正积极构建国际价值链。作为树脂核心供应商，该公司正与美国和中国的企业合作，由美方提供基板涂布与热处理技术，中方则分担纳米压印设备及评价装置的开发，共同致力于AR光波路的连续成型量产。
对于中国制造业而言，东洋合成这种“核心材料+国际分工”的模式值得借鉴，尤其是在环保法规日益趋严的背景下，中国企业在PFAS替代材料的研发与产业链协同上拥有巨大的市场机遇。
