上海伯东代理德国普发 pfeiffer 涡轮分子泵 hipace 700 成功应用于宁波某研究所磁控溅射（megnetron sputtering）系统.宁波某研究所磁控溅射（megnetron sputtering）系统用于光刻胶片上溅金属铬,铜,钛.其中材料生长腔工作真空度要求 < e-7 hpa,能做到4英寸片,3靶位,可实现编程镀膜.材料生长腔对涡轮分子泵的要求较高,老师在考量了德国普发 pfeiffer hipace 700 涡轮分子泵和爱德华 edwards stp603 分子泵后,因为对分子泵的压缩比要求较高,最终选择了德国普发 pfeiffer 分子泵.
-------宁波某研究所磁控溅射系统加装 pfeiffer 涡轮分子泵-----
德国普发 pfeiffer 涡轮分子泵 hipace 700 主要优点：
1.高压缩比 >1x1011
2.使用寿命长
3.涡轮分子泵真空度高且稳定 < e-7 hpa
4.大抽速 (n2) 685 l/s
5.与爱德华 edwards stp603 相比,更大压缩比,真空度高且更稳定
值得一提的是,德国普发 pfeiffer 涡轮分子泵广泛应用于国际知名的磁控溅射厂商,如美国 svta,芬兰 dca,北京汇德信等.
宁波某研究所磁控溅射（megnetron sputtering）系统,同时使用上海伯东德国普发 pfeiffer 真空规 pkr 251 测量腔体真空度,美国 hva6's 真空阀门和德国普发 pfeiffer 氦质谱检漏仪 asm 340 检漏腔体.
上海伯东德国普发 pfeiffer 涡轮分子泵 hipace 系列产品抽速范围 10 l/s 至 2300 l/s,转子速率可达90000rpm。更有涡轮分子泵组 hicube 系列和全磁浮涡轮分子泵 ath 系列供选择已满足不同应用。pfeiffer 涡轮分子泵更获得欧洲工业设计最高奖“红点奖”.
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