默克集团于10月22日在韩国忠清北州阴城郡正式启用一座半导体材料生产基地，旨在为周边芯片制造商供应二氯化钼前驱体，并依托“本地化供应”策略强化其在韩国半导体产业链的布局。
该基地主要生产用于化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）的二氯化钼等特种前驱体溶液。默克表示，新设施将把材料与公司的CHEMKEEPER Vapor 200输送系统、计量及检测能力相结合，提供一体化解决方案。默克称，该方案旨在支持半导体大规模制造，提升工艺效率，并将材料利用率提高至99%。
随着芯片厂商越来越多地采用垂直堆叠的3D NAND架构，钼材料正受到市场关注。传统上用于控制存储单元操作的金属电极多采用钨，但随着半导体结构日益复杂且空间受限，业界对更低电阻材料的需求上升。默克电子业务负责人宾·韩指出，钼在更小的半导体结构中相比钨具有优势，因其可省去高电阻阻挡膜，从而为导电留出更多空间。目前钼主要应用于NAND闪存，未来潜在应用有望扩展至DRAM和逻辑半导体领域。
默克新任电子业务首席执行官·海恩在开业仪式前表示，客户越来越倾向于获得由本地团队背书的集成解决方案，而非单独采购前驱体、包装或第三方服务。“客户期望我们提供一体化的交付方案，并在现场快速解决问题。”他强调，本地化执行是满足客户即时需求的关键。
出于客户保密协议，默克未披露该基地的具体投资金额与产能规模。海恩透露，基地生产的解决方案预计将于今年晚些时候开始向客户供货。他同时指出，韩国芯片设计日益复杂，市场需求潜力巨大，若未来五年内韩国芯片厂商的部分规划落地，将为默克带来显著增长。此外，默克还宣布将在大田广域市开设一座大型生物加工中心。
资料来源：The Korea Times；原文发布日期：2026-10-22。本文为资料编译。