光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业 [6] 。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。 [2]
光刻胶对光敏感，在光照或高温条件下其性能会发生变化。光刻胶在储存过程中会老化，因此通常保存在防光的棕色玻璃试剂瓶中（部分电子束胶由于对紫外波段不感光，有可能直接使用白色塑料瓶包装），冷藏保存，并且紫外光刻胶只能在黄光（λ> 500 nm）下进行处理。通常一款光刻胶的失效日期和建议的存储温度会标注产品标签上。如果保持在这些温度下，未开封的光刻胶将稳定到有效期（通常是生产后的2年，视产品不同略有不同）。通常光刻胶销售时会有一个承诺有效日期，这个日期往往会小于瓶示质保期。需要区分。
温度：对于绝大多数紫外光刻胶而言，通常建议的保存条件是5-10℃下保存（除制造商要求的特殊保存温度外）。如果未打开的瓶子在低于zuijia温度的条件下（例如，在5 – 8°C的温度下与建议的10 – 18°C的温度相比）存储，则可以使一些光刻胶，在超过其有效期限外还可以保持光刻胶的特性并使用。
如果频繁打开光刻胶试剂瓶会导致溶剂蒸发，光刻胶会增稠并因此产生较厚的膜。对于膜厚为1.4 µm的光刻胶，仅损失1％的溶剂就已经导致4％的膜厚，因此带来的影响是需要更高的曝光剂量。所以建议按照实际使用的量进行购买相应包装规格的光刻胶。
如果已经购买了较大包装的光刻胶，可以分装在干净的小瓶中，减小光刻胶开盖次数，大瓶子应该密封好并保存于冷藏室中。另外，小瓶光刻胶可以使用锡箔纸包裹，并备注好相关信息存储。瓶子的清洗步骤：①丙酮(去除有机杂质);②异丙醇(清洗污染的丙酮残留物)。挥发较慢的异丙醇会破坏光刻胶，因此在装入光刻胶之前必须保证瓶中无异丙醇残留。
试剂瓶的选择：只有合适的塑料(无染色的特氟龙，无增塑剂的HD-PE)或低钠玻璃容器可用于储存、转移和分配光刻胶。光刻胶分装后到使用前，根据粘度的不同，建议等待几个小时，以便引入的气泡能够脱气，从而避免在在涂胶时出现气孔等缺陷。
稀释：稀释光刻胶会加速光刻胶的老化，因此建议合理计算使用稀释胶的量，按需求稀释，避免出现浪费。另外，稀释应该尽快完成，避免引入颗粒污染物。最后和分装一样，稀释的过程中不可避免的引入了气泡，需要用过静置一段时间，让气泡逸出后方可使用。
从冰箱中取出后，在任何情况下都不要立即打开瓶子，因为空气中的水汽会凝结在过冷的光刻胶表面，后续会形成气泡等缺陷。因此打开之前，应将瓶子在室温中自然恢复至室温再打开瓶盖。
对于显影液：水溶性显影液应该防止冷冻，即使偶尔的非存储条件也并不会导致显影液失效。有机显影液，请按照瓶示存储条件存储。对于一些对温度感的有机溶剂如二甲基亚砜（DMSO）的熔点刚好低于室温，所以可能会在较冷的房间里冷冻。解冻可能需要几天时间，但解冻后产品仍可照常使用。
对于添加缓冲试剂的qingfusuan(BOE)，在较低温度的环境下易结晶，当然这取决于氟化氢浓度。 解冻后BOE任然可以使用。但是由于这些小晶体在几天后仍然存在，它们会沉淀在基片上并形成颗粒，所以处理时必须小心。