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PECVD石墨舟为什么会导致色差?

更新:2024-05-22 09:30 浏览:0次
PECVD石墨舟为什么会导致色差?
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随着全球对“双碳”目标的共识越来越高,绿色能源成为全球能源转型的重要方向,光伏产品的需求将持续走高。在光伏行业的蓬勃发展的背景下,晟鼎精密利用等离子技术,研发出国内首创等离子石墨舟干式清洗设备与工艺。

石墨舟干法等离子清洗可用于去除石墨舟表面的氮化硅镀层,提高硅片的转化效率和生产良率,为光伏行业带来了重要的创新和进步。


石墨舟清洗的必要性


石墨舟是什么?在光伏电池片制程中,硅片会进行氮化硅镀层,氮化硅膜具有减反射作用和钝化作用,能提高硅片的太阳能转化率,而硅片在PECVD过程中会用到了石墨舟作为工装载具。

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石墨舟作为镀膜工序中硅片的载具使用,表面也会被沉积上氮化硅薄膜,膜层厚度积累到一定程度会影响到硅片的镀膜工艺。

例如:

①局部氮化硅膜脱落,引起舟的表面状态发生变化;

②氮化硅膜很厚会引起舟的导热性能发生变化,局部过厚会引起镀膜不均匀及色差片的产生。使用一定次数后需要定期清洗去除表面的膜层。

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石墨舟传统湿法清洗的五大弊端


目前清洗石墨舟采用的都是传统湿法清洗工艺,但现有湿法清洗技术存在五大弊端:

①清洗时间过长

湿法清洗一个石墨舟直到烘干需要16-20个小时左右,清洗效率低,石墨舟流转缓慢,需购买较多的石墨舟用于周转;

②成本高

成本主要包含①化学品费用;②能耗费用和纯水费用;③ 人工费用;④因为清洗时间长,企业一般要多买实际用量的2倍左右的石墨舟参与周转;

③HF挥发性强,强腐蚀及剧毒,作业安全要求高,人体危害及环境破坏大。

④HF对陶瓷配件腐蚀快,一般需要对舟体拆解后分开清洗,工程量大;

⑤清洗流程长,设备占地面积大;

石墨舟干法清洗的优势

基于传统石墨舟湿式清洗工艺的诸多缺点,晟鼎利用等离子技术,研发出国内首创等离子石墨舟干式清洗设备与工艺。

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技术创新是产品发展的内核,晟鼎11年以来一直专注等离子技术的研发及应用开发,结合行业发展,在新领域的不断拓展,石墨舟干法清洗方式也将在光伏行业中发挥更大的作用,为行业的绿色转型贡献更多力量。


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主要经营:接触角测量仪,大气等离子清洗机,半导体快速退火炉、真空等离子清洗机,宽幅等离子清洗机,微波等离子清洗机,静电消除器,干式超声波除尘

晟鼎精密致力于提供表面性能处理以及检测整体解决方案,集研发、设计、生产、销售及产业链服务为一体的国家高新技术企业。

是接触角国家标准(GB/T30693-2014)参与制定者,拥有行业内首家等离子实验室,与华南理工大学创建等离子技术联合实验室,并拥有10多位行业技术专家。团队成员以多年从事材料表面、电子电气、工业自动化等领域研发的博士、硕士、学士为主,本科学历以上占比50%。

是华为、小米、0PPO、京东方、富士康、比亚迪、蓝思、伯恩、兆驰、三安光电、清华大学、北京大学、复旦大学等企业及科研院校长期合作伙伴。


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