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光电子器件的发展方向分析

更新时间:2013-11-18 11:33:33 信息编号:94407
光电子器件的发展方向分析
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      新型电子元器件将继续向微型化、片式化、高性能化、集成化、智能化、环保节能方向发展。下一代光传送网的基本特征是超大容量,从各种复用技术的发展状况看,密集波分复用(dwdm)被认为是扩大网络容量和提高其灵活性的最有效途径。采用dwdm可以使容量迅速地扩大数十倍至数百倍。由于市场驱动和技术突破的影响,波分复用系统发展极为迅速。因此各种新研制的光器件也都或多或少与波分复用有关。

      dwdm的发展思路一直是追求更高的频谱效率,一方面提高每个通道的速率,另一方面增加通道密度。在速率上,商用系统大多为2.5gbit/s或10gbit/s,更高速率的40gbit/s系统正在实用化,预计到2004年开始商业应用,一些电信公司如阿尔卡特的实验室已进行了160gbit/s的传输实验。在通道密度方面,通道间的波长间隙已小到25ghz,还在向12.5ghz努力,使得商用系统的总通道数现为160~240个,实验室中最高达到1022个。为得到更大容量,有时不得不在上述两者之间折衷考虑,同时还要采取抑制光纤中色散、非线性效应的措施。所有这些要求都涉及到器件的高速、灵活和可靠的问题,而且最终还必须考虑低成本的问题,这使得新原理、新结构和新功能的器件不断涌现。


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